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産品展示
沒有了

磁控濺射真空鍍膜設備

浏覽:730    日期:2019-09-11

詳細參數
 主要參數:
真空室尺寸 ZCK-1200,ZCK-1400,ZCK-1600,ZCK-1800  
真空系統 旋片泵+羅茨泵+擴散泵+維持泵(或選分子泵、深冷泵、深冷系統)
 
極限真空 6×10-4Pa
抽氣時間 空載大氣抽至5×10-3Pa,>13min
真空鍍膜設備的具體配置可根據客戶的鍍膜工藝要求進行量身設計及制作
 
産品介紹:
      磁控濺射鍍膜機應用于塑料制品、陶瓷、樹脂、水晶玻璃制品等、工藝品、塑料手機殼、電子産品、建材等行業。
該系列設備主要是使用直流(或中頻)磁控濺射,可适應廣泛鍍膜靶材,如:銅、钛、鉻、不繡鋼、鎳等金屬材料,
可以利用濺射工藝進行鍍膜,可提高膜層的附着力、重複性、緻密度、均勻度等特點。